建立几十年的电力管理创新,德州仪器(纳斯达克:TXN)今天宣布提供600V镓氮化镓(GaN)70-MΩ场效应晶体管(FET)功率级工程样品的可用性,使TI制作第一和唯一的半导体制造商公开提供高压驱动器集成的GaN解决方案。与TI的模拟和数字电源转换控制器耦合的新型12-A LMG3410功率级使设计人员能够与基于硅FET的解决方案相比产生更小,更高效和更高的设计。这些益处在孤立的高压工业,电信,企业计算和可再生能源应用中尤为重要。
“拥有超过300万小时的可靠性测试,LMG3410使电力设计人员能够实现甘甘道的潜力,并以以来之前不可行地重新思考其电力架构和系统,”高压功率副总裁Steve Lambouses说解决方案。“在TI对制造能力和广泛的系统设计专业知识的声誉扩展,新的电力级是GAN市场的重要一步。”
利用其集成驱动器和诸如零反恢复电流等功能,LMG3410提供可靠的性能,尤其是在硬开关应用中,可以大大降低超过80%的切换损耗。与独立GAN FET不同,易于使用的LMG3410集成内置智能,可用于温度,电流和欠压锁定(UVLO)故障保护。
经过验证的制造和包装专业知识
LMG3410是第一半导体集成电路(IC),包括由Ti制造的GaN FET。在制造和过程技术的多年专业知识上建立,TI在硅兼容的工厂中创建了它的GaN设备,并符合超出典型的联合电子设备工程委员会(JEDEC)标准的实践,以确保GaN的可靠性和鲁棒性苛刻的用例。易于使用的包装将有助于增加在功率因数控制器(PFC)AC / DC转换器,高压直流总线转换器和光伏(PV)逆变器等应用中采用GaN电源设计。
LMG3410的主要特点和优点
- 双倍功率密度。与最先进的硅基增压功率因子转换器相比,600V功率级在图腾杆PFC中提供了50%的功率损耗。降低的材料账单(BOM)计数和更高效率使电源尺寸的减少高达50%。
- 减少包装寄生电感。与离散GaN解决方案相比,新设备的8毫米×8mm四扁平无铅(QFN)封装会降低功率损耗,元件电压应力和电磁干扰(EMI)。
- 启用新的拓扑。GaN的零反转恢复充电利用新的开关拓扑,包括图腾 - 极限PFC和LLC拓扑,以提高功率密度和效率。
- 扩大GaN生态系统
- 为了支持在其电力设计中利用GaN技术的设计师,TI还推出了扩大其GaN生态系统的新产品。LMG5200POLEVM-10,48V至1V负载点(POL)评估模块,将包括新的TPS53632G GAN FET控制器,配对80-V LMG5200 GaN FET功率级。该解决方案允许工业,电信和Datacom应用中高达92%的效率。
可用性和定价
TI将提供一个开发套件,包括半桥子卡和四个LMG3410 IC样品。第二个套件包含一个系统级评估主板。当用在一起时,这两个套件可以立即启动台式测试和设计。两家开发套件可在TI商店购买,分别为299.00美元和199.00美元。
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